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​用于半导体工业的高纯度氮气发生器

[导读]​用于半导体工业的高纯度氮气发生器

用于半导体工业的高纯度氮气发生器

半导体工业需要高纯度和高洁净度的氮气。低温空气分离装置可以将空气中的一系列杂质在精馏过程中清除, 因此理所当然地成为制取高纯氮的方法。但是为了适应半导体工业的特殊需要, 还必须发展一种新的空气分离装置, 并在半导体工厂的旁边就地生产, 以洁净管遭直接输送, 才能保证昕需要的高纯度和高洁净度。

低温氮气发生嚣的主要特征

1、N中仅有极低的氧含量,制取0.0lppm (10ppb)的N 是不困难的。

2、所得的N 洁净度很高, 因为大气中的颗粒经过精馏塔中液体回流的洗涤,已大部分清除。

3、 单塔精馏可以生产带压的N 产品,不需经压缩而遭受再污染,原料空气的压力可随用户要求以N 产品压力而调节, 最高可达0.896MPa。

4、根据系统的冷量平衡可以生产一小部分高纯澈N,充入贮槽, 用作调峰应用或作为贮备。

5、装置的操作可以交替更换,可根据用途降低N 压力,或不生产液N等等。



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